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一种具有二维电子气的单晶薄膜及其制备方法

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专利号 2021114909950 专利名称 一种具有二维电子气的单晶薄膜及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C30B29/32(20060101),C30B23/02(20060101)
申请人 电子科技大学长三角研究院(湖州) 申请地址 浙江省湖州市西塞山路819号科技创新综合体B1幢
发明人 乔梁 申请日期 2021-12-08
下证状态 未知 更新时间 2026-09-13 17:18:22
专利摘要 本发明公开了一种具有二维电子气的单晶薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将氧化镧和氧化钛前驱体粉末均匀混合后研磨,并用压片机压靶,在马弗炉中高温烧结后得到LaTiO<Sub>3</Sub>靶材;(2)清洗并刻蚀SrTiO<Sub>3</Sub>基片;(3)将LaTiO<Sub>3</Sub>靶材和处理后的SrTiO<Sub>3</Sub>基片一同放入脉冲激光沉积系统,在合适的条件下生长LaTiO<Sub>3</Sub>单晶薄膜;(4)在真空环境下,获得不同温度下的相同厚度的LaTiO<Sub>3</Sub>薄膜;(5)控制不同的氧压,在薄膜生长时能达到的真空度从高真空降到低真空,每隔一个数量级生长一个薄膜,制得不同氧压下的LaTiO<Sub>3</Sub>薄膜。本发明通过曲线可以看出薄膜与STO界面之间都存在二维电子气,使薄膜表现出金属性。

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