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一种改善氮化镓晶体生长均匀性装置与生长方法

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专利号 2021113252848 专利名称 一种改善氮化镓晶体生长均匀性装置与生长方法
专利类型 发明专利 国际分类 C30B29/40(20060101),C30B25/12(20060101),C30B25/14(20060101)
申请人 南通大学 申请地址 江苏省南通市啬园路9号
发明人 杨培培 申请日期 2021-11-10
下证状态 未知 更新时间 2026-09-13 17:18:22
专利摘要 本发明涉及一种改善氮化镓晶体生长均匀性装置与生长方法,在氢化物气相外延生长氮化镓晶体装置中,通常衬底被固定在石墨托上,氯化镓与氨气在氮气载气作用下从低温区流向高温区的衬底面,进行结晶生长。生长区的气相饱和度受氮气载气流量、生长区装置的结构等影响导致生长的氮化镓晶体厚度明显不均匀。本发明采用带有石墨镂空围栏的石墨托,可以减小气相的涡旋流动速度,增大气相饱和度及其均匀性,并且在氯化镓的进气口增加半侧喇叭形开口,氨气进气口增加全喇叭形开口,可以降低气流速度并增加衬底表面气相的均匀性。本发明结构简单,增加了衬底上气相饱和度和均匀性,提高了氮化镓晶体生长效率,生长的氮化镓晶体表面更为平整且厚度均匀。

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身份证
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