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一种氮化镓纳米线阵列及其加工方法

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专利号 2022113784651 专利名称 一种氮化镓纳米线阵列及其加工方法
专利类型 发明专利 国际分类 H01L21/306(2006.01),H01L33/00(2010.01),H01L33/32(2010.01),B82Y30/00(2011.01),B82Y40/00(2011.01)
申请人 广东工业大学 申请地址 510062 广东省广州市越秀区东风东路729号
发明人 陈云 申请日期 2022-11-04
下证状态 已下证 更新时间 2026-10-01 17:48:14
专利摘要 本发明公开了一种氮化镓纳米线阵列及其加工方法,包括以下步骤:A、在清洗后的氮化镓晶圆的上表面自组装单层聚苯乙烯纳米微球;B、在单层聚苯乙烯纳米微球的上表面溅射贵金属掩膜;C、去除聚苯乙烯纳米微球;D、金属辅助光化学刻蚀后清洗得到氮化镓纳米孔阵列;E、去除贵金属掩膜;F、无电极光电化学刻蚀后清洗得到氮化镓纳米线阵列。本技术方案提出的一种氮化镓纳米线阵列及其加工方法,通过无电极光电化学刻蚀在氮化镓纳米孔阵列的基础上得到氮化镓纳米线阵列,解决了现有氮化镓纳米线阵列的加工成本高、操作复杂的技术问题。

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