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具有响应性隐形图案的光子晶体材料的制备与应用

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专利号 2021103128967 专利名称 具有响应性隐形图案的光子晶体材料的制备与应用
专利类型 发明专利 国际分类 C30B7/14(2006.01),C30B28/04(2006.01),C30B29/18(2006.01),G01N21/25(2006.01),G01N21/47(2006.01),G02B1/00(2006.01)
申请人 申请地址 214000 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号
发明人 申请日期 2021-03-24
下证状态 已下证 更新时间 2026-09-13 17:18:22
专利摘要 本发明公开了具有响应性隐形图案的光子晶体材料的制备与应用,属于纳米材料和功能高分子材料技术领域。本发明以聚苯乙烯微球为模板制备中空二氧化硅光子晶体,再通过迈克尔加成反应在中空二氧化硅光子晶体上选择性构建具有不同亲疏水性的区域,形成可对水蒸汽选择性响应的隐形图案。本发明所制备的具备隐形图案的改性中空二氧化硅光子晶体材料可用于湿气检测和其他溶剂检测,在动态湿气作用下,在1秒内便能显示不同颜色的明显图案,且其具有长期稳定的响应性高,重复100次之后无明显误差。本发明提供的方法可在聚苯乙烯微球、中空二氧化硅微球及其光子晶体的制备、图案化的制备、多种溶剂及其蒸汽的检测等领域都有较好的应用前景。

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