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一种BiVO4纳米片及其制备方法和应用

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专利号 2021111529790 专利名称 一种BiVO4纳米片及其制备方法和应用
专利类型 发明专利 国际分类 C01G41/00(20060101),C02F1/28(20060101),B82Y40/00(20110101),C02F101/30(20060101)
申请人 陕西科技大学 申请地址 陕西省西安市未央区大学园
发明人 谈国强 申请日期 2021-09-29
下证状态 未知 更新时间 2026-09-13 17:18:22
专利摘要 本发明提供一种BiVO<Sub>4</Sub>纳米片及其制备方法和应用,包括以下步骤:步骤1,将Bi(NO<Sub>3</Sub>)<Sub>3</Sub>·5H<Sub>2</Sub>O溶于稀HNO<Sub>3</Sub>溶液中,搅拌至澄清,然后加入NH<Sub>4</Sub>VO<Sub>3</Sub>,搅拌,形成前驱液;其中,前驱液的pH值控制在小于0.01;步骤2,将前驱液在50~60℃下水热反应21~26h,制得红色沉淀,将该红色沉淀用去离子水洗涤后再加入无水乙醇静置,制得深绿色沉淀;步骤3,将深绿色沉淀用无水乙醇洗涤,干燥,制得BiVO<Sub>4</Sub>纳米片。制备得到的BiVO<Sub>4</Sub>纳米片比表面积增大,黑暗条件下吸附性能增强。

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卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
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