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一种石墨炔润滑薄膜的制备方法及其应用

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专利号 2021110454369 专利名称 一种石墨炔润滑薄膜的制备方法及其应用
专利类型 发明专利 国际分类 C23C14/16(2006.01),C23C28/00(2006.01),C23C26/00(2006.01),F16N15/02(2006.01),B82Y40/00(2011.01)
申请人 曲阜师范大学 申请地址 272000山东省济宁市曲阜市静轩西路57号
发明人 公培伟 申请日期 2021-09-07
下证状态 已下证 更新时间 2026-09-09 17:08:05
专利摘要 本发明公开一种石墨炔润滑薄膜的制备方法及其应用,所述方法包括:(1)以单晶硅为基底,使用物理气相沉积法在其表面沉积铜纳米膜,且沉积温度不低于110℃,沉积完成后立即对铜纳米膜进行快速冷却,即得沉积有铜纳米膜的基底,备用;(2)将六炔基苯在溶剂中发生偶合反应,在步骤(1)得到的基底的铜纳米膜表面生成石墨炔薄膜,即得。本发明的方法制备的石墨炔薄膜具有良好的润滑效果,特别是在长时间磨损下依然保持优异的润滑性能,且具有稳定的润滑性能,其保证了本发明制备的石墨炔薄膜在机械工程领域具有良好的应用前景。

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