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一种耐磨MgCuY/Cu非晶/晶体多层薄膜及其制备方法和应用

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专利号 2023106114289 专利名称 一种耐磨MgCuY/Cu非晶/晶体多层薄膜及其制备方法和应用
专利类型 发明专利 国际分类 C23C14/16,C23C14/35,C22C23/06
申请人 长安大学 申请地址 陕西省西安市碑林区南二环中段33号
发明人 虢婷 申请日期 2023-05-26
下证状态 未知 更新时间 2026-09-09 17:08:05
专利摘要 本发明公开了一种耐磨MgCuY/Cu非晶/晶体多层薄膜及其制备方法和应用,包括采用磁控溅射技术交替叠加的非晶MgCuY层和金属Cu层;MgCuY层中各元素的原子百分含量为Mg:80%‑88%,Cu:3%‑8%,Y:9%‑12%;MgCuY层单层厚度为4nm,金属Cu单层层厚度为4‑32nm,多层薄膜的总厚度为0.84‑1.06μm。硬度均高于纯Cu薄膜和MgCuY非晶薄膜,并且耐磨性得相比纯Cu薄膜明显改善。

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身份证
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