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气相沉积装置及氧化亚硅的制备方法

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  • 2018100591052

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专利号 2018100591052 专利名称 气相沉积装置及氧化亚硅的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C23C16/40,C23C16/448,C23C16/46,C23C16/56
申请人 新特能源股份有限公司 申请地址 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐国家级高新技术产业开发区(新市区)甘泉堡高新技术产业园
发明人 银波 申请日期 2018-01-22
下证状态 已下证 更新时间 2026-08-13 17:45:22
专利摘要 本发明公开了一种气相沉积装置及氧化亚硅的制备方法,气相沉积装置,包括炉体、设置于炉体内的加热腔室、设置于炉体外的沉积腔室,气相沉积装置还包括:进料机构、刮取机构、设置于炉体外的收集腔室,收集腔室包括第一阀门,第一阀门用于控制沉积腔室与收集腔室之间通道的开闭。本发明中的气相沉积装置,通过关闭收集腔室入口处的第一阀门,可在线将收集腔室收集到的沉积产物排出,使得气相沉积装置内的气相沉积反应可以连续在线进行,且出料时不影响气相沉积反应。本发明与现有技术相比,能实现连续生产,从而降低了能耗,提高了产能,提高了生产效率。且沉积比较充分,物料损失少,收集的产品具有较高的质量稳定性,能够满足市场大规模的需求。

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