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一种双掺杂多孔磷化钴纳米片电催化材料的制备方法

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专利号 2021102298195 专利名称 一种双掺杂多孔磷化钴纳米片电催化材料的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C25B11/042(2021.01),C25B1/04(2021.01),B82Y30/00(2011.01),B82Y40/00(2011.01)
申请人 申请地址 212013江苏省镇江市京口区学府路301号
发明人 孟素慈 申请日期 2021-03-02
下证状态 未知 更新时间 2025-01-13 07:54:41
专利摘要 本发明涉及一种双金属掺杂多孔磷化钴纳米片电催化材料及制备方法与用途,属于材料制备和电催化的技术领域。本发明以稳定性好、导电性好的CoP为主体,通过掺杂与低温煅烧的方式制备其比表面积高、组分均匀分布的CrxFeyCozP纳米片。制备的材料可用于电催化析氢与析氧反应,并表现出良好的电催化性能。

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