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一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构
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发明专利
专利类型 -
未知
专利状态 -
202110553754X
专利号
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专利信息
数据仅供参考，具体信息可联系在线顾问
| 专利号 | 202110553754X | 专利名称 | 一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构 |
|---|---|---|---|
| 专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | F16J 15/40 (2006.01),F16J 15/3244 (2016.01),F16J 15/3268 (2016.01),F16J 15/3284 (2016.01),F16J 15/3292 (2016.01) |
| 申请人 | 中国计量大学 | 申请地址 | 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号 |
| 发明人 | 陈源 | 申请日期 | 2021-05-20 |
| 下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2025-01-13 07:53:51 |
| 专利摘要 | 本发明公开了一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构，包括环本体，环本体上由内向外依次设置有第一圆形凹面、第一圆形台阶、第二圆形凹面和第二圆形台阶。第一密封坝，第一密封坝包括内侧鼓泡箔片和第一环状盖体；内侧鼓泡箔片首尾相接沿周向分别均匀铺设在第一圆形凹面上，上方第一环状盖体。第二密封坝，第二密封坝包括外侧鼓泡箔片和第二环状盖体；外侧鼓泡箔片沿周向铺设在第二圆形凹面上，上方插入第二环状盖体，第二环状盖体上表面设有动压槽，中部箔片机构，中部箔片机构设置在第一圆形台阶上。本发明可以有效的提升弹性箔片端面气膜密封结构的抗冲击能力。内外双重浮动密封坝结构有利于改善密封的控漏能力。 | ||
交易流程
转让材料
| 买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
|---|---|---|---|---|
| 企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
| 买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
| 卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 | ||
服务保障
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