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胶束刻蚀制备聚（3,4-二氧乙烯噻吩）纳米图案的方法
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发明专利
专利类型 -
已下证
专利状态 -
2021101428505
专利号
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专利信息
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| 专利号 | 2021101428505 | 专利名称 | 胶束刻蚀制备聚（3,4-二氧乙烯噻吩）纳米图案的方法 |
|---|---|---|---|
| 专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | H01B5/14(2006.01),H01B1/12(2006.01),H01B13/00(2006.01),C08G61/12(2006.01),B82Y30/00(2011.01),B82Y40/00(2011.01) |
| 申请人 | Hunan University of Arts and Science | 申请地址 | 415000 湖南省常德市洞庭大道3150号 |
| 发明人 | 马冯 | 申请日期 | 2021-02-02 |
| 下证状态 | 已下证 | 更新时间 | 2026-07-10 15:07:51 |
| 专利摘要 | 本发明涉及一种胶束刻蚀制备聚（3,4‑二氧乙烯噻吩）纳米图案的方法，包括如下步骤，1）处理基板，清洗玻璃基板，除去杂物和羟基化，将其置于湿度为40‑80％的环境中；2）旋涂氧化物薄膜，将氧化剂溶液滴加到玻璃基板上，旋转玻璃基板，静置一段时间；3）形成聚（3,4‑二氧乙烯噻吩）纳米图案，将形成有氧化剂薄膜的玻璃基板置于气相合成室内，加热（3,4‑二氧乙烯噻吩）单体，控制气相合成室内湿度和温度，反应，清洗，干燥，得到聚（3,4‑二氧乙烯噻吩）纳米图案，本方法操作简单，便于控制尺寸，稳定性高，成本低廉，纳米图案上的孔洞尺寸达到纳米级，导电率高。 | ||
交易流程
转让材料
| 买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
|---|---|---|---|---|
| 企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
| 买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
| 卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 | ||
服务保障
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