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专利号	2019112772871	专利名称	纳米多孔硅凸透镜组的制备方法
专利类型	发明专利	国际分类	C25F3/12(20060101),C25F3/30(20060101),C25F7/00(20060101)
申请人	湖南文理学院	申请地址	湖南省常德市武陵区洞庭大道3150号
发明人	龙永福	申请日期	2019-12-12
下证状态	未知	更新时间	2025-01-10 07:59:10
专利摘要	本发明公开了一种纳米多孔硅凸透镜组的制备方法，该方法是将常规双槽腐蚀制备多孔硅薄膜，先采用正、负方波恒流源对硅片左、右表面进行电化学腐蚀形成多孔硅薄膜后，再加大腐蚀电流，对硅片的中间部分进行电抛光，然后，将其浸入氢氧化钠溶液中，并以圆形的两片多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆形多孔硅薄膜，形成由多孔硅材料构成的凸透镜组。通过本发明的方法，能获得纳米多孔硅凸透镜组，能广泛应用于微机电系统，为微机光电系统领域作出了重大的贡献。

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