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一种有序硅纳米孔道薄膜/氧化铟锡电极电化学检测铅离子的方法

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专利号 201610620605X 专利名称 一种有序硅纳米孔道薄膜/氧化铟锡电极电化学检测铅离子的方法
专利类型 发明专利 国际分类 G01N27/48
申请人 浙江理工大学 申请地址 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街5号
发明人 刘吉洋;程博文;周璘;袁坤;奚凤娜 申请日期 2016-07-29
下证状态 未知 更新时间 2025-05-27 08:07:56
专利摘要 本发明公开了一种有序硅纳米孔道薄膜/氧化铟锡电极电化学检测铅离子的方法,包括以下步骤:(1)将待检样品与缓冲液混合得到pH值为3.6~6.0的待测液;(2)以有序硅纳米孔道薄膜/氧化铟锡电极作为工作电极,恒电压法富集待测液中的铅离子,富集电压为‑0.8V~‑0.6V;(3)将完成富集的电极置于空白的pH值为3.6~6.0的缓冲液中,利用微分脉冲伏安法测得峰电流值,根据标准曲线计算待检样品中的铅离子浓度;所述微分脉冲伏安法扫描的起始电位为‑0.95V~‑0.65V,终止电位为‑0.4V~0.5V。本发明检测方法可实现对痕量铅离子的检测,在实际样品的检测尤其是生物复杂样品的检测中具有潜在应用价值。

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