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一种单晶硅表面氨基硅烷-硫化钐薄膜的制备方法

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专利号 2011103755885 专利名称 一种单晶硅表面氨基硅烷-硫化钐薄膜的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 G02B1/00
申请人 陕西科技大学 申请地址 陕西省西安市未央区大学园1号
发明人 黄剑锋;侯艳超;刘佳;曹丽云;吴建鹏;殷立雄 申请日期 2011-11-23
下证状态 未知 更新时间 2023-05-20 11:13:10
专利摘要 一种单晶硅表面氨基硅烷-硫化钐薄膜的制备方法,在二碘化钐的四氢呋喃溶液中加入EDTA得溶液B;向溶液B中加入硫脲得溶液C;用氨水调节溶液C的pH值至2.5~4.5得前驱液D;将前驱液D置于烧杯中,再将功能化后的硅基板置于前驱液D中,将烧杯放入真空干燥皿中,抽真空,然后将真空干燥皿置于干燥箱中沉积制备硫化钐薄膜,将制备好的薄膜置于真空干燥箱中干燥得硫化钐纳米薄膜。由于本发明采用液相自组装方法,制得的硫化钐纳米薄膜,均匀,致密,低缺陷,强度高,并且通过控制前驱液浓度、pH值以及沉积时间可以控制薄膜厚度和晶粒大小。这种方法制备的硫化钐纳米薄膜重复性高,易于大面积制膜。且操作方便,原料易得,制备成本较低。

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