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一种降低六方氮化硼二维薄膜厚度的方法
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发明专利
专利类型 -
未知
专利状态 -
2016100383775
专利号
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专利信息
数据仅供参考，具体信息可联系在线顾问
| 专利号 | 2016100383775 | 专利名称 | 一种降低六方氮化硼二维薄膜厚度的方法 |
|---|---|---|---|
| 专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | C23C16/34 |
| 申请人 | 江苏中商碳素研究院有限公司 | 申请地址 | 江苏省徐州市沛县经济开发区沛公路北侧、汉润路东侧（科技创业园） |
| 发明人 | 赵士超 | 申请日期 | 2016-01-20 |
| 下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2025-05-27 09:51:21 |
| 专利摘要 | 本发明涉及一种降低六方氮化硼二维薄膜厚度的方法。目前六方氮化硼原子层薄膜的可通过化学气相沉积法生长，但六方氮化硼原子层薄膜生长质量不高，比如单晶晶畴尺寸小，薄膜表层有分散的氮化硼颗粒物或连续的颗粒膜，这些都影响到氮化硼薄膜的性能与应用。本方法通过化学气相沉积法首先合成氮化硼薄膜，然后在不同气氛中对薄膜进行热处理去除表层中的颗粒物，获得薄膜厚度降低后的高质量六方氮化硼二维薄膜，这种方法对于降低氮化硼薄膜厚度与提高薄膜质量是有益的。 | ||
交易流程
转让材料
| 买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
|---|---|---|---|---|
| 企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
| 买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
| 卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 | ||
服务保障
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