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一种在InP衬底上外延生长II型GaSb/InGaAs量子点的方法

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专利号 2014100694864 专利名称 一种在InP衬底上外延生长II型GaSb/InGaAs量子点的方法
专利类型 发明专利 国际分类 C30B23/02,C30B29/52,B82Y40/00
申请人 常熟市知识产权运营中心有限公司 申请地址 江苏省苏州市常熟市常福街道联丰路68号4号楼5楼
发明人 何苗 申请日期 2014-02-27
下证状态 未知 更新时间 2025-05-27 09:36:13
专利摘要 本发明公开了一种II型GaSb/In<sub>0.53</sub>Ga<sub>0.47</sub>As量子点超晶格材料及其生长方法,该超晶格材第一层为生长在InP衬底上的In<sub>0.53</sub>Ga<sub>0.47</sub>As缓冲层,第二层为GaSb量子点,第三层为In<sub>0.53</sub>Ga<sub>0.47</sub>As缓冲层,第四层为GaSb量子点;其生长方法为先在InP衬底表面生长缓冲层后,生长4~5ML?GaSb量子点,再生长缓冲层,最后再生长4~5ML?GaSb量子点;本发明实现了采用MBE技术在InP衬底上以S?K模式生长获得GaSb/In<sub>0.53</sub>Ga<sub>0.47</sub>As量子点,其形貌质量好、光学性能佳;本发明方法有效避免了As?Sb互换,显著降低了晶格失配度和Ga原子迁移。

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