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飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法

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专利号 2012103039095 专利名称 飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法
专利类型 发明专利 国际分类 B81C1/00
申请人 常熟市知识产权运营中心有限公司 申请地址 江苏省苏州市常熟市常福街道联丰路68号4号楼5楼
发明人 周广宏 申请日期 2012-08-24
下证状态 未知 更新时间 2025-05-27 09:34:32
专利摘要 本发明公开了一种利用飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法,包括以下步骤:(1)按衬底、缓冲层、磁性层、保护层的顺序沉积制作磁性薄膜;(2)利用飞秒激光作为光源,通过计算机精确控制样品台的位置,对磁性薄膜进行无掩膜辐照,得磁敏感微结构单元;其中,飞秒激光的参数为:单脉冲能量5~50μJ;脉冲宽度90~150fs;波长800nm;脉冲频率10~100Hz;样品台移动速度为60~500μm/min;在辐照时根据需要沿平行或垂直于磁性薄膜膜面方向施加0~500Oe的诱导磁场。本方法简单、高效、可控,且无需预先制造掩模。

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卖方 企业营业执照
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身份证
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