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一种压接式IGBT器件结构优化设计方法

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专利号 2019111163240 专利名称 一种压接式IGBT器件结构优化设计方法
专利类型 发明专利 国际分类 G06F30/23(2020.01),G06F30/367(2020.01),G06F119/14(2020.01)
申请人 湖南城市学院 申请地址 413000 湖南省益阳市迎宾东路518号
发明人 黄志亮 申请日期 2019-11-15
下证状态 未知 更新时间 2025-05-27 09:11:16
专利摘要 本发明涉及大功率半导体器件结构设计技术领域;公开了一种压接式IGBT器件结构优化设计方法,该方法包括以下处理步骤:基于待优化的压接式IGBT器件,选取设计目标;基于压接式IGBT器件,建立热力耦合有限元分析模型M0,进一步地选取耦合温度‑位移稳态求解器对有限元分析模型M0求解;基于各芯片的位置及应力值,建立应力平衡系数响应面;组成初始系数向量a(0)为初始点,构建优化模型并对其求解得到最优系数向量a*;基于最优平衡系数,构建银片设计方案。与现有技术相比,所提方法建立的结构优化模型,可基于现有有限元分析商业软件及经典的优化算法进行求解,从而避免了繁琐、复杂的编程过程,从而具有良好的工程易用性。

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