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专利号	2019112499600	专利名称	一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅
专利类型	发明专利	国际分类	G02B1/118
申请人	江苏创芯海微科技有限公司	申请地址	江苏省无锡市新吴区菱湖大道200号E2-112
发明人	毛海央	申请日期	2019-12-09
下证状态	未知	更新时间	2025-05-27 08:51:15
专利摘要	本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括：衬底，还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构，锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20～150nm，分布密度为3～20根/um2，若干锥状抗反射结构在不同高度范围内的数量百分比分布为：100nm以下:0％～5％，100nm～150nm:50％～60％，150nm～200nm:25％～35％，200nm～260nm:10％～20％。本发明产品在更宽的波长范围内具有更优异的抗反射性能。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
买方	企业营业执照企业组织机构代码证	身份证
卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件