发明专利
专利类型未知
专利状态2020111980634
专利号专利号 | 2020111980634 | 专利名称 | 一种离子布植方法、装置及设备 |
---|---|---|---|
专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | H01L21/265,H01J37/317 |
申请人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 | 申请地址 | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
发明人 | 杨学人 | 申请日期 | 2020-10-30 |
下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2025-05-27 08:50:50 |
专利摘要 | 本发明公开了一种离子布植方法、装置及设备。该离子布植方法包括:提供带状离子束流;样片从带状离子束流的第一端旋转运动至带状离子束流的第二端时,控制带状离子束流对样片进行离子布植,其中带状离子束流的第一端指向第二端的方向为带状离子束流的延伸方向。本发明实施例提供的技术方案,在缩短样片离子布植时间的基础上,提高了样片表面离子掺杂的均匀度。 |
买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
---|---|---|---|---|
企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 |
专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价您的咨询我们已收到,稍后会有专业顾问与您联系。