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一种钴掺杂二硫化钼原位电极及其制备方法

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专利号 2017113421093 专利名称 一种钴掺杂二硫化钼原位电极及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C01G51/00
申请人 申请地址 湖北省宜昌市大学路8号
发明人 申请日期 2017-12-14
下证状态 未知 更新时间 2025-05-27 08:10:57
专利摘要 本发明提供一种钴掺杂二硫化钼原位电极,所述的钴掺杂二硫化钼为钴均匀替代钼所形成的钴掺杂二硫化钼,钴掺杂二硫化钼的物相为2H型二硫化钼。具体制备方法是在室温下,将氯化钼溶于乙醇溶液中,再加入金属钴盐,再加入硫脲,搅拌溶解,得到Co‑Mo‑S前躯液;将上述前躯液滴涂或旋涂到基底上,70~100℃快速干燥,得到前驱膜;将步骤二中前驱膜于氩气或氮气保护中经500~800℃烧结0.5~2 h,随炉冷却取出即可得到钴掺杂二硫化钼原位电极。本发明利用Co‑Mo‑S前驱液内Co、Mo、S原子的均匀混合性和Co‑Mo‑S乙醇前驱液易均匀成膜性;利用500~800℃高温固相反应制备钴掺杂的二硫化钼。原位Co掺杂MoS2电极生长具有相对于热解Pt电极更好的稳定性。

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卖方 企业营业执照
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身份证
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