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一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法

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专利号 2016109372441 专利名称 一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法
专利类型 发明专利 国际分类 H01L31/0296(2006.01),H01L31/0392(2006.01),H01L31/0749(2012.01),C01G11/02(2006.01)
申请人 申请地址 524048广东省湛江市赤坎区寸金路29号
发明人 申请日期 2016-11-01
下证状态 未知 更新时间 2025-01-13 08:00:45
专利摘要 本发明涉及半导体光电材料技术领域,提供了一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法,将金属源CdSO<sub>4</sub>、硫源Na<sub>2</sub>S<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、含SO<sub>3</sub><sup>2‑</sup>的硫源释放控制剂及H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>溶液混合,得到沉积液,将沉积液的pH值稳定在3.5~4.0,将衬底浸渍于沉积液中,使沉积液液面与衬底的上表面的距离小于1mm,使用LED深紫外光照射,形成硫化镉纳米薄膜。所述方法能够使硫源的释放得到控制,提高了薄膜生长的均匀性。对比一般光化学沉积工艺,该工艺使用的深紫外光源功率小,热效应低,经过光学设计后在固定范围内深紫外光强度均一,能制备出达到铜铟镓硒太阳能电池缓冲层要求的、均匀一致的、与基底紧密接触的高质量纳米硫化镉薄膜。

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