发明专利
专利类型未知
专利状态202010449530X
专利号专利号 | 202010449530X | 专利名称 | 测量矢量随机电磁光场二维空间相干结构分布的方法 |
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专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | G01J9/00(2006.01),G01J1/42(2006.01) |
申请人 | 申请地址 | 215000江苏省苏州市吴中区石湖西路188号 | |
发明人 | 申请日期 | 2020-05-25 | |
下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2025-01-11 08:44:40 |
专利摘要 | 本发明公开了一种测量矢量随机电磁光场二维空间相干结构分布的方法,包括以下步骤:搭建测试光路;遮挡参考光,光探测器记录光强分布;转动四分之一波片,使其快轴方向与线偏振片的透光轴方向一致;遮挡待测矢量随机光,移除参考光的遮挡,光探测器记录光强分布;移除待测矢量随机光的遮挡,光探测器记录光强分布;转动四分之一波片,使其快轴方向与线偏振片的透光轴方向垂直;遮挡待测矢量随机光,移除参考光的遮挡,光探测器记录光强分布;移除待测矢量随机光的遮挡,光探测器记录光强分布;计算获得待测矢量随机光的振幅和相位。其能够测出矢量随机电磁光场的振幅分布和相位分布,测试速度快。 |
买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
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企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 |
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