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一种具有超结结构的半导体器件及其制作方法

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专利号 2018101505641 专利名称 一种具有超结结构的半导体器件及其制作方法
专利类型 发明专利 国际分类 H01L29/786,H01L29/06,H01L21/336
申请人 汇佳网(天津)科技有限公司 申请地址 天津市南开区卫津路与万德庄大街交口西南侧新都大厦1-1-505-1
发明人 王振海 申请日期 2018-02-13
下证状态 未知 更新时间 2025-01-11 08:36:17
专利摘要 本发明提供了一种具有超结结构的半导体器件及其制作方法,涉及半导体芯片技术领域,包括:N型衬底、N+区、P‑体区、PN交替超结区、N+源区、栅极氧化层、多晶硅栅极、介质层隔离、器件源极金属和器件漏极金属。PN交替超结区由P+层与N+层横向间隔交替排列,N+区的中央区内部横向设置有由超结P型柱组成的超结P型柱阵列组。该技术方案缓解了现有技术存在的导通电阻大、饱和电流低的技术问题,有效保证了半导体器件的耐压性能,提高了半导体器件的饱和电流,减小了器件的导通电阻,充分发挥了超结结构的优势,有效利用器件面积,降低了器件的生产成本,改善半导体器件的导通性能。

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卖方 企业营业执照
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身份证
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