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专利号	202410035030X	专利名称	一种超低摩擦选择性氢化的织构化超薄非晶碳薄膜及制备方法
专利类型	发明专利	国际分类	C23C 14/06 (2006.01),C23C 14/35 (2006.01),C23C 14/58 (2006.01)
申请人	中国矿业大学	申请地址	江苏省徐州市铜山区大学路1号
发明人		申请日期	2024-01-10
下证状态	未知	更新时间	2025-01-10 07:53:29
专利摘要	本发明公开了一种超低摩擦选择性氢化的织构化超薄非晶碳薄膜及制备方法，属于材料表面改性技术领域。该超薄（20~200nm）非晶碳薄膜包括非晶碳膜上配副和选择性氢化的织构非晶碳下配副，其中下配副从上到下包含表面织构层和非晶碳支撑层，表面织构层为等间距矩形织构且其凸起位置为氢化处理区域，非晶碳支撑层为非晶碳膜。该超薄非晶碳薄膜具有原子级光滑表面，并且具有高硬度、高承载、低磨损、超低摩擦和极好的摩擦稳定性，能为磁存储设备和微米或纳米电子机械系统优异的摩擦防护。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
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卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件