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专利号	2022104962382	专利名称	一种POSS-酞菁铜介电单体改性聚苯乙烯材料的制备方法
专利类型	发明专利	国际分类	C08L25/06(2006.01);C08L83/08(2006.01);C08F112/08(2006.01);C08G77/26(2006.01)
申请人	葛焕军	申请地址
发明人	葛焕军	申请日期	2022-05-09
下证状态	未下证	更新时间	2023-08-19 08:00:57
专利摘要	本发明涉及高介电PS材料合成技术领域，且公开了一种POSS‑酞菁铜介电单体改性聚苯乙烯材料的制备方法，包括：通过氨基酞菁铜(NH‑CuPc)的氨基官能团与4‑氯甲基苯乙烯的氯甲基官能团发生取代消去反应，得到八芳烯基酞菁铜单体；通过八芳烯基酞菁铜单体的芳烯基官能团与含氢七苯基笼形倍半硅氧烷(POSS‑H)的硅氢官能团发生硅氢加成反应，得到POSS‑酞菁铜介电单体；以POSS‑酞菁铜介电单体为填料，以聚苯乙烯为聚合物基体，制备得到高介电常数、低介电损耗的POSS‑酞菁铜介电单体改性聚苯乙烯材料。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
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卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件