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一种高强度Ni<base:Sub>50</base:Sub>Mn<base:Sub>34</base:Sub>In<base:Sub>16</base:Sub>磁记忆合金的制备方法

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专利号 2017103076773 专利名称 一种高强度Ni<base:Sub>50</base:Sub>Mn<base:Sub>34</base:Sub>In<base:Sub>16</base:Sub>磁记忆合金的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C22C30/00;B22F1/00;C22C1/04;B22F3/22
申请人 大连大学 申请地址 辽宁省大连市经济技术开发区学府大街10号
发明人 董桂馥;王兴安;王通;赵益民 申请日期 2017-05-04
下证状态 未知 更新时间 2022-09-19 11:46:07
专利摘要 本发明涉及一种磁性形状记忆合金的制备方法,特别是一种高强度Ni50Mn34In16磁记忆合金的制备方法,本发明的高强度Ni50Mn34In16按如下步骤进行制备:按照原子百分比取料、混炼、成型、脱脂、烧结,即得到高强度Ni50Mn34In16。本发明制备的Ni50Mn34In16合金具有更高的断裂强度、断裂应变,该磁性形状记忆合金晶粒尺寸细小,以期驱动磁场门槛值降低并具有优异的磁学性能,为高温高塑性形状记忆合金的应用拓展了思路。

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