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基于相场模型利用激光控制硅基表面形态的研究方法
院校-
发明专利
专利类型 -
已下证
专利状态 -
2017100154499
专利号
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专利信息
数据仅供参考，具体信息可联系在线顾问
| 专利号 | 2017100154499 | 专利名称 | 基于相场模型利用激光控制硅基表面形态的研究方法 |
|---|---|---|---|
| 专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | G01Q60/24 |
| 申请人 | 杭州电子科技大学 | 申请地址 | 浙江省杭州市经济技术开发区白杨街道2号大街1号 |
| 发明人 | 张俐楠;程从秀;吴立群;郑伟;王洪成 | 申请日期 | 2017-01-10 |
| 下证状态 | 已下证 | 更新时间 | 2025-08-12 08:20:38 |
| 专利摘要 | 本发明公开了一种基于相场模型利用激光控制硅基表面形态的研究方法，按如下步骤进行：一、在原子力显微镜下，采用硅夹具将微纳结构的硅基板夹住；二、用激光对硅基板的悬空端照射数秒，观察硅基板的硅基表面形态并测量相对应的尺寸；三、在相场模型下模拟基于激光照射下的硅原子扩散行为和纳米结构硅基表面形态的演变过程。 | ||
交易流程
转让材料
| 买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
|---|---|---|---|---|
| 企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
| 买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
| 卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 | ||
服务保障
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