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一种等离子体处理制备表面羟基化WO薄膜光电极材料的方法

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  • 2019106736134

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专利号 2019106736134 专利名称 一种等离子体处理制备表面羟基化WO薄膜光电极材料的方法
专利类型 发明专利 国际分类 C23C18/12;C25B11/06;C25B1/04
申请人 台州学院 申请地址
发明人 熊贤强;梅优阳;李江山;范利亚;武承林;付帅 申请日期 2019-07-24
下证状态 已下证 更新时间 2023-11-29 08:00:56
专利摘要 本发明涉及一种等离子体处理制备表面羟基化WO3薄膜光电极材料的方法,具体步骤为:先在FTO导电玻璃表面制备WO3晶种,然后以H2WO4的H2O2溶液、乙腈、草酸和盐酸溶液为原料,在WO3晶种表面水热生长纳米片状WO3;后采用低温等离子体技术对WO3薄膜电极表面进行处理,得到表面羟基化的WO3薄膜。本发明制备的表面羟基化WO3薄膜与水的润湿性好,体相载流子浓度增加,界面电荷转移加快,有效促进了光电催化水分解性能。并且,等离子体处理WO3薄膜工艺简单,节能环保,无公害,效率高,时间短,对大规模处理WO3光电极提供了一种重要途径。

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